二、矽半導體能帶隙中適當的缺陷(trap)可提供做為電子與電洞對的產生與復 合中心(generation-recombination center),已知 p-型矽之, 常溫下矽材料之 ni 為。(每小題 10 分,共 20 分)
(一)當電子電洞濃度因外在因素被移除,使得 n p ≪ ni2 成立,此時該 trap 是扮演淨產生或是淨復合為主的變動角色?若少數載子之該機制相 關壽命為,則在該機制下之淨變動速率為何?