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申論題資訊

試卷:110年 - 110 高等考試_二級_電子工程:電子元件#101946
科目:電子元件
年份:110年
排序:0

題組內容

二、矽半導體能帶隙中適當的缺陷(trap)可提供做為電子與電洞對的產生與復 合中心(generation-recombination center),已知 p-型矽之615ac42f3c3d6.jpg, 常溫下矽材料之 ni 為615ac42957acb.jpg。(每小題 10 分,共 20 分)

申論題內容

(一)當電子電洞濃度因外在因素被移除,使得 n p ≪ ni2 成立,此時該 trap 是扮演淨產生或是淨復合為主的變動角色?若少數載子之該機制相 關壽命為615ac46b46a32.jpg,則在該機制下之淨變動速率為何?