13 考慮一加強型NMOS電晶體,於VGS = 3.3 V且 VDS = 2 V時量得電流 ID = 1.5 mA,同一製程之電晶體 若在相同操作電壓下欲得到更大之電流,可藉由下列何項方式達成?
(A)選擇閘氧化層(gate oxide)厚度較厚之元件
(B)選擇通道長度(channel length)較長之元件
(C)選擇通道寬度(channel width)較大之元件
(D)使基板(substrate)偏壓由 VSB = 0V至VSB = 2V

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統計: A(1), B(3), C(31), D(1), E(0) #1241298

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#3705443
ID=K(VGS-VT)^2K=1/2*...
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私人筆記#7687878
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